[发明专利]作为硝化抑制剂的吡唑化合物

摘要

本发明涉及作为硝化抑制剂的吡唑衍生物。

主权项

式I的吡唑化合物或其立体异构体、盐、互变异构体或N‑氧化物作为硝化抑制剂的用途：其中R1为C3‑C6炔基，条件是若R1为C3炔基，则它为炔丙基，或者C3‑C6丙二烯基，其中这些基团的碳原子在每种情况下可以未被取代或者可以带有1、2或3个选自卤素、CN、ORa、NO2、NRcRd、NRb(C＝O)Ra、O(C＝O)Ra、C(＝O)Ra、C(＝O)ORa、C(＝O)NRcRd、S(O)mRa和S(O)mNRcRd的相同或不同取代基；并且其中R2、R3和R4相互独立地选自H、卤素、CN、ORa、NO2、NRcRd、NRb(C＝O)Ra、C(＝O)Ra、C(＝O)ORa、C(＝O)NRcRd、S(O)mRa、S(O)mNRcRd；C1‑C8烷基、C3‑C8环烷基、C2‑C8链烯基、C2‑C8炔基，其中这些基团的碳原子在每种情况下可以未被取代或者可以带有1、2或3个选自卤素、CN、ORa、NO2、NRcRd、NRb(C＝O)Ra、C(＝O)Ra、C(＝O)ORa、C(＝O)NRcRd、S(O)mRa和S(O)mNRcRd的相同或不同取代基；C6‑C10芳基和C5‑C10杂芳基，其中芳族结构部分在每种情况下可以未被取代或者可以带有1、2、3、4或5个选自卤素、CN、ORa、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C2‑C4链烯基和C2‑C4炔基的相同或不同取代基；或者R3和R4一起形成桥，从而与R3和R4所键合的原子一起形成稠合的部分或完全不饱和或芳族5‑10员碳环或杂环，其中杂环可以带有1、2或3个选自O、S和N的杂原子，其中S和/或N可以任选被氧化，并且其中碳环或杂环可以未被取代或者可以带有1、2、3、4或5个选自＝O、卤素、CN、ORa、NO2、NRcRd、NRb(C＝O)Ra、C(＝O)Ra、C(＝O)ORa、C(＝O)NRcRd、O(C＝O)NRcRd、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C6‑C10芳基、C5‑C10杂芳基、C5‑C10碳环基和C5‑C10杂环基的相同或不同取代基，其中C6‑C10芳基、C5‑C10杂芳基、C5‑C10碳环基和C5‑C10杂环基结构部分可以未被取代或者可以带有1、2、3、4或5个选自＝O、卤素、CN、C1‑C4烷基和C1‑C4卤代烷基的相同或不同取代基；或者R2和R4一起形成桥，从而与R2和R4所键合的原子一起形成稠合的部分或完全不饱和或芳族5‑10员碳环或杂环，其中杂环可以带有1、2或3个选自O、S和N的杂原子，其中S和/或N可以任选被氧化，并且其中碳环或杂环可以未被取代或者可以带有1、2、3、4或5个选自＝O、卤素、CN、ORa、NO2、NRcRd、NRb(C＝O)Ra、C(＝O)Ra、C(＝O)ORa、C(＝O)NRcRd、O(C＝O)NRcRd、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C6‑C10芳基、C5‑C10杂芳基、C5‑C10碳环基和C5‑C10杂环基的相同或不同取代基，其中C6‑C10芳基、C5‑C10杂芳基、C5‑C10碳环基和C5‑C10杂环基结构部分可以未被取代或者可以带有1、2、3、4或5个选自＝O、卤素、CN、C1‑C4烷基和C1‑C4卤代烷基的相同或不同取代基；并且其中Ra为H、C1‑C8烷基、C1‑C8卤代烷基、C2‑C8链烯基、C2‑C8炔基；C5‑C10杂芳基或C6‑C10芳基，其中C5‑C10杂芳基或C6‑C10芳基结构部分在每种情况下可以未被取代或者可以带有1、2、3、4或5个选自卤素、CN、OH、C1‑C4烷基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷基、C2‑C4链烯基、C2‑C4炔基、C5‑C6杂芳基和C6芳基的相同或不同取代基，其中所述C5‑C6杂芳基和C6芳基结构部分可以未被取代或者可以带有1、2、3、4或5个选自卤素、CN、OH、C1‑C4烷基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷基、C2‑C4链烯基和C2‑C4炔基的取代基；Rb为H、C1‑C4烷基、C3‑C8环烷基、C2‑C4链烯基、C2‑C8炔基或C6‑C10芳基；以及Rc和Rd相互独立地选自H、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C3‑C8环烷基、C6‑C10芳基和C5‑C10杂芳基；或者Rc和Rd与它们所键合的N原子一起形成可以带有选自O、S和N的另外杂原子作为环成员原子的5‑6员饱和或不饱和杂环，其中S和/或N可以任选被氧化，并且其中杂环可以未被取代或者可以带有1、2、3、4或5个独立地选自卤素、CN、OH、NO2、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基和C1‑C4卤代烷氧基的取代基；并且其中m为0、1或2。