[发明专利]铬-钛合金溅射靶材及其制造方法

摘要

本发明提供一种能够抑制在溅射时产生的微细颗粒产生的铬‑钛合金溅射靶材及其制造方法。铬‑钛合金溅射靶材的原子比的组成式是以Cr_100‑X‑Ti_X、40≤X≤60表示，剩余部分包含不可避免的杂质，所述杂质中含有合计为1质量ppm以上且50质量ppm以下的Mg、Al、Si、Mn、Ni、Cu及Sn。以及铬‑钛合金溅射靶材的制造方法是将含有合计为1质量ppm以上且50质量ppm以下的Mg、Al、Si、Mn、Ni、Cu及Sn作为杂质的Ti粉末，与含有合计为1质量ppm以上且50质量ppm以下的Mg、Al、Si、Mn、Ni、Cu及Sn作为杂质的Cr粉末混合，并进行加压烧结。

主权项

1.一种铬‑钛合金溅射靶材，其特征在于：原子比的组成式是以Cr_100‑X‑Ti_X、40≦X≦60表示，剩余部分包含不可避免的杂质，所述不可避免的杂质中含有合计为1质量ppm以上且17质量ppm以下的Mg、Al、Si、Mn、Ni、Cu及Sn，其中所述不可避免的杂质中含有Mg≦1质量ppm、Al≦10质量ppm、Si≦10质量ppm、Mn≦1质量ppm、Ni≦10质量ppm、Cu≦1质量ppm、Sn≦5质量ppm。