[发明专利]聚合物及正性抗蚀剂组合物在审
| 申请号： | 201680009227.X | 申请日： | 2016-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN107207663A | 公开（公告）日： | 2017-09-26 |
| 发明（设计）人： | 星野学 | 申请（专利权）人： | 日本瑞翁株式会社 |
| 主分类号： | C08F212/06 | 分类号： | C08F212/06;C08F220/22;G03F7/039;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙)11413 | 代理人： | 邵秋雨,赵曦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种可良好地用作在电离辐射等的照射量少的状态下的减膜率低的正性抗蚀剂的聚合物、以及可良好地形成高分辨率的图案的正性抗蚀剂组合物。本发明的聚合物含有α‑甲基苯乙烯单元和α‑氯代丙烯酸甲酯单元，分子量小于6000的成分的比例为0.5％以下。此外，本发明的正性抗蚀剂组合物包含溶剂和上述的聚合物。 | ||
| 搜索关键词： | 聚合物 正性抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】：
一种聚合物，其含有α‑甲基苯乙烯单元和α‑氯代丙烯酸甲酯单元，分子量小于6000的成分的比例为0.5％以下。
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