[发明专利]用于探测电离辐射的闪烁探测器有效
申请号: | 201680009348.4 | 申请日: | 2016-02-08 |
公开(公告)号: | CN107209277B | 公开(公告)日: | 2019-10-22 |
发明(设计)人: | 爱丽丝·霍斯波德科娃;卡雷尔·布拉泽克;爱德华·胡利休斯;扬·托斯;马丁·尼克尔 | 申请(专利权)人: | 克莱托斯波尔公司;费兹卡尼厄斯达AVCR公司 |
主分类号: | G01T1/24 | 分类号: | G01T1/24 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 隆翔鹰 |
地址: | 捷克图*** | 国省代码: | 捷克;CZ |
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摘要: | 用于探测电离辐射的闪烁探测器,该电离辐射尤其是电子、X射线或粒子辐射,该闪烁探测器包括单晶基底(1)、至少一个缓冲层(2)、至少一个氮化物半导体层(3、4、5、6),该至少一个氮化物半导体层被施加至具有外延的基底(1)上,该氮化物半导体层用通式AlyInxGa1‑x‑yN描述,其中0≤x≤1、0≤y≤1和0≤x+y≤1有效,其中至少两个氮化物半导体层(3、4)被设置在层状异质结构中,该层状异质结构的结构包含至少一个势阱,该至少一个势阱用于电子和空穴的辐射重组。在该结构中,设有大体上相同极化的氮化物半导体层(3、4)的至少一个活性双层,该至少一个活性双层由AlybInxbGa1‑xb‑ybN型的阻挡层(4)和表示势阱的AlywInxwGa1‑xw‑ywN型的层(5)组成,其中xb≤xw和yb≤yw有效;或者存在厚度(t3)小于2nm、AlydInxdGa1‑xd‑ydN型的至少一个载体吸引层(7),其中yd≤yw和xd≥xw+0.3,该至少一个载体吸引层(7)嵌入氮化物半导体层(4、5)的至少一个活性双层中,以减小发光衰减时间。 | ||
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【主权项】:
1.用于探测电离辐射的闪烁探测器,该闪烁探测器包括单晶基底(1),在该单晶基底(1)上施加至少一个缓冲层(2),用于将至少一个氮化物半导体层(3、4、5、6)结合在具有外延的单晶基底(1)上,该氮化物半导体层用通式AlyInxGa1‑x‑yN描述,其中0≤x<1、0≤y<1和0≤x+y≤1有效,且其中至少两个氮化物半导体层(3、4)被设置在层状异质结构中,该层状异质结构的结构包含至少一个势阱,该至少一个势阱用于电子和空穴的辐射重组,其特征在于,在缓冲层(2)上设有至少一个底部氮化物半导体层(3),在该底部氮化物半导体层(3)上方设有大体上相同极化的氮化物半导体层(3、4)的至少一个活性双层,该至少一个活性双层由AlybInxbGa1‑xb‑ybN型的阻挡层和表示势阱的AlywInxwGa1‑xw‑ywN型的层组成,其中xb≤xw和yb≤yw有效;或者在氮化物半导体层(4、5)的至少一个活性双层中嵌入厚度(t3)小于2nm、AlydInxdGa1‑xd‑ydN型的至少一个层(7),其中yd≤yw和xd≥xw+0.3有效,以在表示势阱的AlywInxwGa1‑xw‑ywN型的层的内部形成邻接至表示势阱的AlywInxwGa1‑xw‑ywN型的层的载体吸引层,表示势阱以减小发光衰减时间;在氮化物半导体层(3、4)的最高的活性双层上方,以远离基底(1)的方向设有至少一个顶部氮化物半导体层(6)。
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