[发明专利]平滑表面石墨膜和其制造方法在审
| 申请号： | 201680010104.8 | 申请日： | 2016-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN107207264A | 公开（公告）日： | 2017-09-26 |
| 发明（设计）人： | 立花正满;多多见笃;村上睦明 | 申请（专利权）人： | 株式会社钟化 |
| 主分类号： | C01B32/184 | 分类号： | C01B32/184 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 | 代理人： | 刘新宇,李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种石墨膜，其是在原料高分子膜的焙烧中，对自然的收缩·膨胀施加各种限制而得到的、厚度10nm～12μm、面积5×5mm2以上、电导率8000S/cm以上、表面的算术平均粗糙度Ra为200nm以下的石墨膜。 | ||
| 搜索关键词： | 平滑 表面 石墨 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种单独的石墨膜，其厚度为10nm～12μm、面积为5×5mm2以上、电导率为8000S/cm以上、表面的算术平均粗糙度Ra为200nm以下。
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