[发明专利]R‑TM‑B系烧结磁铁在审
| 申请号： | 201680010730.7 | 申请日： | 2016-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN107251169A | 公开（公告）日： | 2017-10-13 |
| 发明（设计）人： | 山道大介;蒲池政直;石井伦太郎;加藤孝洋 | 申请（专利权）人： | 日立金属株式会社 |
| 主分类号： | H01F1/057 | 分类号： | H01F1/057;B22F3/00;C22C33/02;C22C38/00;H01F1/08;H01F7/02 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人： | 雒运朴 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种R‑TM‑B系烧结磁铁，含有24.5～34.5质量％的R、0.85～1.15质量％的B、不足0.1质量％的Co、0.07～0.5质量％的Ga、0～0.4质量％的Cu、不可避免杂质、以及剩余部分Fe，R是从含有Y的稀土类元素中选出的至少一种，其特征在于，所述Ga以及Cu的含量处于在将Ga量以及Cu量分别设为X轴以及Y轴的XY平面上由以点A(0.5，0.0)、点B(0.5，0.4)、点C(0.07，0.4)、点D(0.07，0.1)以及点E(0.2，0.0)为顶点的五边形围成的区域内，所述Ga量以及Cu量为质量％。 | ||
| 搜索关键词： | tm 烧结 磁铁 | ||
【主权项】：
一种R‑TM‑B系烧结磁铁，其含有24.5～34.5质量％的R、0.85～1.15质量％的B、不足0.1质量％的Co、0.07～0.5质量％的Ga、0～0.4质量％的Cu、不可避免杂质、以及剩余部分Fe，R是从含有Y的稀土类元素中选出的至少一种，其特征在于，所述Ga以及Cu的含量处于在将Ga量以及Cu量分别设为X轴以及Y轴的XY平面上由以点A(0.5，0.0)、点B(0.5，0.4)、点C(0.07，0.4)、点D(0.07，0.1)以及点E(0.2，0.0)为顶点的五边形围成的区域内，所述Ga量以及Cu量为质量％。
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