[发明专利]磁场调整辅助系统和磁场调整方法有效
| 申请号： | 201680011178.3 | 申请日： | 2016-02-19 |
| 公开（公告）号： | CN107249453B | 公开（公告）日： | 2020-12-25 |
| 发明（设计）人： | 阿部充志;榊原健二;藤川拓也;花田光 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立制作所 |
| 主分类号： | A61B5/055 | 分类号： | A61B5/055 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 曾贤伟;范胜杰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种匀场方法，在该匀场方法中，根据磁场测量值假定虚拟地配置且包围测量位置的电流面，通过电流电位再现能够再现测量磁场的电流分布(或磁矩分布)，并包含该再现的该磁场分布。在预先确定好的闭合曲面上推定对由磁场测量装置取得的磁场分布进行再现那样的磁矩或者电流分布，根据所推定的所述磁矩或者电流分布推定在所述闭合曲面内存在的任意点的磁场分布。并且，基于所推定的所述磁场分布，输出产生用于修正所述任意点的磁场分布的匀场磁性体的分布。 | ||
| 搜索关键词： | 磁场 调整 辅助 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种磁场调整辅助系统，其特征在于，具备：磁场测量装置，其具有使用机械机构来相互固定的传感部，且能够执行多个磁场测量点的磁场测量；以及磁场调整辅助部，其在预先确定好的闭合曲面上推定用于再现由所述磁场测量装置取得的磁场分布那样的磁矩或者电流分布，并根据所述推定出的磁矩或者电流分布来推定存在于所述闭合曲面内的任意点的磁场分布，基于所述推定出的磁场分布输出生成用于修正所述任意点的磁场分布的校正磁场的匀场磁性体的分布。
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