[发明专利]MEMS装置、记录头以及液体喷射装置有效

专利信息
申请号: 201680011186.8 申请日: 2016-03-03
公开(公告)号: CN107257736B 公开(公告)日: 2019-11-08
发明(设计)人: 田中秀一 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: B41J2/14 分类号: B41J2/14;B41J2/16
代理公司: 北京金信知识产权代理有限公司 11225 代理人: 黄威;董领逊
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供了阻止基板弯曲使得初级电极和次级电极可以可靠地彼此连接的MEMS装置、记录头和液体喷射装置。包括了设置有包括初级电极34的凸块32的初级基板30以及在由粘合层35形成的凹部36的底面上设置有次级电极91的次级基板10。初级基板10和次级基板30利用粘合层35接合在一起,初级电极34以凸块32插入到凹部36中的方式而与次级电极91电连接,并且凸块32的一部分与形成凹部36的粘合层35在凸块32插入凹部36的方向上彼此重叠。
搜索关键词: mems 装置 记录 以及 液体 喷射
【主权项】:
1.一种MEMS装置,包括:初级基板,其设置有包括初级电极的凸块;和次级基板,其在粘合层形成的凹部的底面上设置有次级电极,其中所述初级基板和所述次级基板利用所述粘合层接合在一起,所述初级电极以所述凸块插入到所述凹部中的方式而与所述次级电极电连接,在所述粘合层与所述凸块之间提供间隙从而使所述粘合层保持与所述凸块不接触,所述凸块的部分与形成所述凹部的所述粘合层在所述凸块插入所述凹部的方向上彼此重叠,并且形成所述凹部的所述粘合层的一个或多个表面朝向次级基板侧倾斜从而形成所述间隙。
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