[发明专利]作为除草剂的取代的嘧啶氧基吡啶衍生物

摘要

披露了式1的化合物，包括其所有的立体异构体、N‑氧化物和盐，其中Q、Z、R2、R3和m是如本披露所定义的。还披露了包含式1的化合物的组合物，以及用于控制不希望植被的方法，该方法包括使该不希望植被或其环境与有效量的本发明的化合物或组合物接触。

主权项

一种化合物，该化合物选自式1、其N‑氧化物和盐，其中Q是任选地被1至4个R1取代的5元或6元芳族杂环；Z是O或S；每个R1独立地是卤素、氰基、硝基、SF5、CHO、C(＝O)NH2、C(＝S)NH2、SO2NH2、C1‑C4烷基、C2‑C4烯基、C2‑C4炔基、C1‑C4卤代烷基、C2‑C4卤代烯基、C2‑C4卤代炔基、C3‑C6环烷基、C3‑C6卤代环烷基、C4‑C8烷基环烷基、C4‑C8环烷基烷基、C2‑C6烷基羰基、C2‑C6卤代烷基羰基、C2‑C6烷氧基羰基、C3‑C7环烷基羰基、C2‑C8烷基氨基羰基、C3‑C10二烷基氨基羰基、C1‑C4烷氧基、C3‑C4烯氧基、C3‑C4炔氧基、C1‑C4卤代烷氧基、C3‑C4卤代烯氧基、C3‑C4卤代炔氧基、C3‑C6环烷氧基、C3‑C6卤代环烷氧基、C4‑C8环烷基烷氧基、C2‑C6烷氧基烷基、C2‑C6卤代烷氧基烷基、C2‑C6烷氧基卤代烷基、C2‑C6烷氧基烷氧基、C2‑C4烷基羰基氧基、C2‑C6氰基烷基、C2‑C6氰基烷氧基、C1‑C4羟烷基、C2‑C4烷基硫代烷基、SOnR1A、Si(CH3)3或B(‑OC(R1B)2C(R1B)2O‑)；或是任选地被独立地选自R1C的最高达5个取代基取代的苯环；或是包含选自碳原子和最高达4个杂原子的环成员的5‑或6‑元杂环，所述杂原子独立地选自最高达2个O、最高达2个S和最高达4个N原子，每个环任选地被最高达3个取代基取代，在碳原子环成员上所述取代基独立地选自R1C并且在氮原子环成员上所述取代基独立地选自R1D；R2是卤素、氰基、硝基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4烷基、C2‑C6烯基、C2‑C6炔基、SOnR2A、C1‑C4卤代烷基或C3‑C6环烷基；每个R3独立地是卤素、氰基、羟基、硝基、氨基、CHO、C(＝O)NH2、C(＝S)NH2、SO2NH2、C1‑C4烷基、C2‑C4烯基、C2‑C4炔基、C1‑C4卤代烷基、C2‑C4卤代烯基、C2‑C4卤代炔基、C3‑C6环烷基、C3‑C6卤代环烷基、C4‑C8烷基环烷基、C4‑C8环烷基烷基、C2‑C6烷基羰基、C2‑C6卤代烷基羰基、C2‑C6烷氧基羰基、C3‑C7环烷基羰基、C1‑C4烷氧基、C3‑C4烯氧基、C3‑C4炔氧基、C1‑C4卤代烷氧基、C3‑C4卤代烯氧基、C3‑C4卤代炔氧基、C3‑C6环烷氧基、C3‑C6卤代环烷氧基、C4‑C8环烷基烷氧基、C2‑C6烷氧基烷基、C2‑C6卤代烷氧基烷基、C2‑C6烷氧基卤代烷基、C2‑C6烷氧基烷氧基、C2‑C4烷基羰基氧基、C2‑C6氰基烷基、C2‑C6氰基烷氧基、C2‑C4烷基硫代烷基、Si(CH3)3、C≡CSi(CH3)3、C(＝O)N(R3A)(R3B)、C(＝NOR3C)H、C(＝NR3D)H或SOnR3E；或是任选地被独立地选自R3F的最高达5个取代基取代的苯环；或是包含选自碳原子和最高达4个杂原子的环成员的5‑或6‑元杂环，所述杂原子独立地选自最高达2个O、最高达2个S和最高达4个N原子，每个环任选地被最高达3个取代基取代，在碳原子环成员上所述取代基独立地选自R3F并且在氮原子环成员上所述取代基独立地选自R3G；或嘧啶氧基；m是0、1、2或3；每个n独立地是0、1或2；每个R1A、R2A和R3E独立地是C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷基氨基或C2‑C6二烷基氨基；每个R1B独立地是H或C1‑C4烷基；每个R1C独立地是羟基、卤素、氰基、硝基、C1‑C6烷基、C1‑C6卤代烷基、C1‑C6烷氧基或C1‑C6卤代烷氧基；每个R1D独立地是氰基、C1‑C6烷基、C1‑C6卤代烷基、C1‑C6烷氧基或C2‑C6烷基羰基；每个R3A独立地是C1‑C4烷基或C1‑C4卤代烷基；每个R3B独立地是H、C1‑C4烷基或C1‑C4卤代烷基；每个R3C独立地是H或C1‑C4烷基；每个R3D独立地是H、氨基、C1‑C4烷基或C1‑C4烷基氨基；每个R3F独立地是羟基、卤素、氰基、硝基、C1‑C6烷基、C1‑C6卤代烷基、C1‑C6烷氧基或C1‑C6卤代烷氧基；并且每个R3G独立地是氰基、C1‑C6烷基、C1‑C6卤代烷基、C1‑C6烷氧基或C2‑C6烷基羰基。