[发明专利]测量装置、光刻系统及曝光装置、以及组件制造方法有效

专利信息
申请号: 201680011730.9 申请日: 2016-02-23
公开(公告)号: CN107250717B 公开(公告)日: 2020-09-29
发明(设计)人: 柴崎祐一 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G01B11/00 分类号: G01B11/00;G03F9/00;H01L21/027
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 肖靖
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的测量装置(100),具备平台(12)、保持基板(W)能相对平台移动的滑动件(10)、驱动滑动件的驱动系统、测量滑动件相对平台的第1位置信息的第1位置测量系、具有检测基板上的标记的标记检测系(MDS)的测量单元(40)、测量标记检测系与平台的相对的第2位置信息的第2位置测量系、以及一边控制驱动系统对滑动件的驱动、一边取得第1位置测量系的第1位置信息及第2位置测量系的第2位置信息、并根据检测基板上标记的标记检测系的检测信号与第1位置信息与第2位置信息求出多个标记的位置信息的控制装置。
搜索关键词: 测量 装置 光刻 系统 曝光 以及 组件 制造 方法
【主权项】:
一种测量装置,测量形成在基板的多个标记的位置信息,其具备:基座构件;载台,保持所述基板、并能够相对所述基座构件移动;驱动系统,用以移动所述载台;第1位置测量系,用以测量所述载台相对所述基座构件的第1位置信息;测量单元,具有用以检测形成在所述基板的标记的标记检测系;第2位置测量系,用以测量所述标记检测系与所述基座构件的相对的第2位置信息;以及控制装置,控制以所述驱动系统进行的所述载台的移动,使用所述第1位置测量系取得所述第1位置信息,使用所述第2位置测量系取得所述第2位置信息,并使用所述标记检测系求出形成在所述基板的所述多个标记的位置信息。
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