[发明专利]相位差板及相位差板的制造方法有效
| 申请号： | 201680011894.1 | 申请日： | 2016-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN107430229B | 公开（公告）日： | 2020-11-03 |
| 发明（设计）人： | 波多野拓;合田和矢 | 申请（专利权）人： | 日本瑞翁株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;B32B27/00;B32B27/08;G02F1/13363;B29C48/18;B29C48/21;B32B27/30;H01L51/50;B32B27/32;B29C55/00;B29C55/04;B32B7/02 |
| 代理公司： | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人： | 赵曦;刘继富 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种相位差板及其制造方法，上述相位差板具有第一层和第二层，上述第一层由固有双折射值为正的树脂形成且具有双折射，上述第二层由固有双折射值为负的树脂形成且具有双折射，上述相位差板的波长450nm的延迟Re(450)、波长550nm的延迟Re(550)、以及厚度d满足式(I)Re(450)/Re(550)0.92和式(II)Re(550)/d0.0035。 | ||
| 搜索关键词： | 相位差 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种相位差板，其具有，由固有双折射值为正的树脂形成、具有双折射的第一层，以及由固有双折射值为负的树脂形成、具有双折射的第二层，所述相位差板的波长450nm的延迟Re(450)、所述相位差板的波长550nm的延迟Re(550)、以及所述相位差板的厚度d满足式(I)和式(II)，Re(450)/Re(550)<0.92 (I)，Re(550)/d>0.0035 (II)。
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