[发明专利]用于稀疏角度采样的断层摄影成像装置和方法有效
| 申请号： | 201680012102.2 | 申请日： | 2016-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN107249465B | 公开（公告）日： | 2018-09-28 |
| 发明（设计）人： | M·格拉斯;T·克勒 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/02 | 分类号： | A61B6/02;A61B6/03;A61B6/00;G06T11/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 蔡洪贵 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种断层摄影成像装置(1)。该装置(1)包括辐射探测器(3)，该辐射探测器用于测量穿过待成像对象行进的辐射，该辐射探测器(3)被配置成测量仅在绕轴线(z)的弯曲轨迹上的多个选定采样位置处的辐射。规划单元(12)被配置成基于对象(21)在基本垂直于所述轴线(z)的平面(x‑y)中的估计轮廓(44、53)来确定选定采样位置。此外，本发明涉及用于操作该装置(1)的方法。本发明尤其适用于计算机断层摄影成像中。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射探测器 断层摄影成像装置 采样位置 计算机断层摄影成像 测量 成像对象 规划单元 弯曲轨迹 辐射 绕轴线 采样 配置 稀疏 垂直 行进 穿过 | ||
【主权项】：
1.一种断层摄影成像装置(1)，包括：辐射探测器(3)，所述辐射探测器用于测量穿过待成像的对象(21)行进的辐射，所述辐射探测器(3)被配置成测量沿着仅在绕轴线(z)的弯曲轨迹上的多个选定采样位置处的至少一条射线路径(42a；42b；52a；52b)行进的辐射；以及规划单元(12)，所述规划单元被配置成基于所述对象(21)在基本垂直于所述轴线(z)的平面(x‑y)中的估计轮廓(44；53)来确定所述选定采样位置，以及按如下方式确定所述选定采样位置，即，使得沿着所述对象(21)在相邻角度采样位置处的相同的所述至少一条射线路径(42a、42b；52a、52b)和所述对象(21)的轮廓(44；53)的交叉点之间的轮廓(44；53)的路径(41；51)具有大约相等的长度(L；L’)。
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