[发明专利]抗蚀剂下层膜的形成方法在审
申请号: | 201680012680.6 | 申请日: | 2016-02-05 |
公开(公告)号: | CN107407883A | 公开(公告)日: | 2017-11-28 |
发明(设计)人: | 柄泽凉;新城彻也;桥本圭祐 | 申请(专利权)人: | 日产化学工业株式会社 |
主分类号: | G03F7/11 | 分类号: | G03F7/11;G03F7/26;H01L21/027 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所11247 | 代理人: | 黄媛,段承恩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明的课题是提供对包含碳氟化合物的气体具有高干蚀刻耐性的抗蚀剂下层膜的形成方法。作为解决本发明课题的方法为一种抗蚀剂下层膜的形成方法,将抗蚀剂下层膜形成用组合物涂布在基板上,将涂布有上述抗蚀剂下层膜形成用组合物的基板在氮气、氩气或它们的混合物的气氛下,在240℃以上的温度烘烤至少1次,所述抗蚀剂下层膜形成用组合物包含相对于富勒烯1分子加成有下述式(1)(式中,2个R各自独立地表示碳原子数1~10的烷基。)所示的丙二酸二酯1~6分子的富勒烯衍生物、具有至少2个环氧基的化合物以及溶剂。 | ||
搜索关键词: | 抗蚀剂 下层 形成 方法 | ||
【主权项】:
一种抗蚀剂下层膜的形成方法,将抗蚀剂下层膜形成用组合物涂布于基板上,将涂布有所述抗蚀剂下层膜形成用组合物的基板在氮气、氩气或它们的混合物的气氛下,在240℃以上的温度烘烤至少1次,所述抗蚀剂下层膜形成用组合物包含:相对于富勒烯1分子加成有下述式(1)所示的丙二酸二酯1~6分子的富勒烯衍生物、具有至少2个环氧基的化合物以及溶剂,式中,2个R各自独立地表示碳原子数1~10的烷基。
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