[发明专利]抗蚀剂下层膜的形成方法在审

专利信息
申请号: 201680012680.6 申请日: 2016-02-05
公开(公告)号: CN107407883A 公开(公告)日: 2017-11-28
发明(设计)人: 柄泽凉;新城彻也;桥本圭祐 申请(专利权)人: 日产化学工业株式会社
主分类号: G03F7/11 分类号: G03F7/11;G03F7/26;H01L21/027
代理公司: 北京市中咨律师事务所11247 代理人: 黄媛,段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明的课题是提供对包含碳氟化合物的气体具有高干蚀刻耐性的抗蚀剂下层膜的形成方法。作为解决本发明课题的方法为一种抗蚀剂下层膜的形成方法,将抗蚀剂下层膜形成用组合物涂布在基板上,将涂布有上述抗蚀剂下层膜形成用组合物的基板在氮气、氩气或它们的混合物的气氛下,在240℃以上的温度烘烤至少1次,所述抗蚀剂下层膜形成用组合物包含相对于富勒烯1分子加成有下述式(1)(式中,2个R各自独立地表示碳原子数1~10的烷基。)所示的丙二酸二酯1~6分子的富勒烯衍生物、具有至少2个环氧基的化合物以及溶剂。
搜索关键词: 抗蚀剂 下层 形成 方法
【主权项】:
一种抗蚀剂下层膜的形成方法,将抗蚀剂下层膜形成用组合物涂布于基板上,将涂布有所述抗蚀剂下层膜形成用组合物的基板在氮气、氩气或它们的混合物的气氛下,在240℃以上的温度烘烤至少1次,所述抗蚀剂下层膜形成用组合物包含:相对于富勒烯1分子加成有下述式(1)所示的丙二酸二酯1~6分子的富勒烯衍生物、具有至少2个环氧基的化合物以及溶剂,式中,2个R各自独立地表示碳原子数1~10的烷基。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日产化学工业株式会社,未经日产化学工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201680012680.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top