[发明专利]光刻设备和器件制造方法有效
| 申请号： | 201680013461.X | 申请日： | 2016-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN107407889B | 公开（公告）日： | 2019-04-12 |
| 发明（设计）人： | H·巴特勒;M·W·J·E·维杰克曼斯;E·A·F·范德帕施;C·A·霍根达姆;B·A·J·勒提库斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;张宁 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻设备，包括：定位平台(WT)；隔离框架(300)；投影系统(PS)，包括第一框架(210)；第二框架(220)；支撑框架(10)，用于支撑定位平台；第一振动隔离系统(250)和第二振动隔离系统(270)，其中支撑框架和第一框架经由第一振动隔离系统而耦合；平台位置测量系统(400)，用于直接地确定定位平台的元件在一个或多个自由度中相对于隔离框架的元件的隔离框架参考的平台参考的位置；以及其中第一框架和隔离框架经由第二振动隔离系统而耦合。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻设备，包括：－定位平台；－支撑框架，用于支撑所述定位平台；－隔离框架；－投影系统，包括：受力框架，被配置为支撑所述隔离框架；传感器框架；－第一振动隔离系统和第二振动隔离系统，其中:所述受力框架和所述支撑框架经由所述第一振动隔离系统而被耦合；以及所述受力框架和所述隔离框架经由所述第二振动隔离系统而被耦合。
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