[发明专利]包含阳离子型聚合物添加剂的抛光组合物有效
| 申请号： | 201680013850.2 | 申请日： | 2016-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN107429120B | 公开（公告）日： | 2019-10-01 |
| 发明（设计）人： | B.赖斯;D.索特范内斯;林越;贾仁合 | 申请（专利权）人： | 嘉柏微电子材料股份公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邢岳 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供化学机械抛光组合物及利用所述化学机械抛光组合物以化学机械方式抛光基板、尤其是包含硅氧化物层的基板的方法。所述抛光组合物包含：第一研磨剂颗粒，其中所述第一研磨剂颗粒为湿法铈土颗粒，具有约75nm至约200nm的中值粒度且以约0.005重量％至约2重量％的浓度存在于该抛光组合物中；经官能化的杂环；阳离子型聚合物，其选自季胺、阳离子型聚乙烯醇及阳离子型纤维素；任选的羧酸；pH调节剂；及水性载剂，且具有约1至约6的pH。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 阳离子 聚合物 添加剂 抛光 组合 | ||
【主权项】：
1.化学机械抛光组合物，其包含：(a)第一研磨剂颗粒，其中所述第一研磨剂颗粒为湿法铈土颗粒，具有75nm至200nm的中值粒度且以0.005重量％至2重量％的浓度存在于该抛光组合物中，(b)经官能化的杂环，其选自经官能化的含氮杂环、经官能化的含硫杂环、萘甲酸及其组合，其中该经官能化的杂环以100ppm至1500ppm的浓度存在于该抛光组合物中，其中该经官能化的含氮杂环选自吡啶甲酸、吡啶甲基胺、喹哪啶酸、及其组合，(c)阳离子型聚合物，其中该阳离子型聚合物为季胺，且其中该阳离子型聚合物以1ppm至250ppm的浓度存在于该抛光组合物中，(d)羧酸，其中该羧酸的pKa为1至6，且其中该羧酸以25ppm至500ppm的浓度存在于该抛光组合物中，(e)pH调节剂，其中该pH调节剂为三乙醇胺，及(f)水性载剂，其中该抛光组合物的pH为1至6，且其中该抛光组合物的pH与该羧酸的pKa的偏差不超过2个单位。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于嘉柏微电子材料股份公司，未经嘉柏微电子材料股份公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201680013850.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
