[发明专利]喷射器及喷射器式制冷循环有效
申请号: | 201680014417.0 | 申请日: | 2016-02-26 |
公开(公告)号: | CN107429711B | 公开(公告)日: | 2019-03-22 |
发明(设计)人: | 横山佳之;西嶋春幸;高野义昭 | 申请(专利权)人: | 株式会社电装 |
主分类号: | F04F5/46 | 分类号: | F04F5/46;F04F5/44;F25B1/00 |
代理公司: | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人: | 肖华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的喷射器具备:喷嘴(21、32),该喷嘴喷射制冷剂;主体(22、30),该主体具有制冷剂吸引口(22a、31b)、及升压部(20g);通路形成部件(23、35),该通路形成部件插入于喷嘴内;及驱动装置(23a、37),该驱动装置使通路形成部件位移。在形成于喷嘴与通路形成部件之间的喷嘴通路(20a、25a)中设有:最小通路截面积部(20b、25b);顶端变细部(20c、25c);及扩开部(20d、25d)。将通路形成部件中的、使最小通路截面积变化的部位定义为顶端部(23b、35a),将通路形成部件向使最小通路截面积增加的一侧位移时的位移量定义为增加侧位移量(δ)。顶端部形成为伴随着增加侧位移量的增加而最小通路截面积的增加程度变大的形状。 | ||
搜索关键词: | 喷射器 制冷 循环 | ||
【主权项】:
1.一种喷射器,适用于蒸气压缩式的制冷循环装置(10、10a),其特征在于,具备:喷嘴(21、32),所述喷嘴喷射制冷剂;回转流产生部(21d、20e、30a),所述回转流产生部使向所述喷嘴(21、32)流入的制冷剂产生绕着所述喷嘴(21、32)的中心轴的回转流;主体(22、30),所述主体具有利用从所述喷嘴(21、32)喷射的喷射制冷剂的吸引作用来从外部吸引制冷剂的制冷剂吸引口(22a、31b)、以及使所述喷射制冷剂与从所述制冷剂吸引口(22a、31b)吸引来的吸引制冷剂混合而升压的升压部(20g);通路形成部件(23、35),所述通路形成部件插入于在所述喷嘴(21、32)内形成的制冷剂通路内;以及驱动装置(23a、37),所述驱动装置使所述通路形成部件(23、35)位移,在所述喷嘴(21、32)的内周面与所述通路形成部件(23、35)的外周面之间形成的制冷剂通路是使制冷剂减压的喷嘴通路(20a、25a),在所述喷嘴通路(20a、25a)设有通路截面积缩小到最小的最小通路截面积部(20b、25b)、形成于所述最小通路截面积部(20b、25b)的制冷剂流上游侧且通路截面积朝向所述最小通路截面积部(20b、25b)而逐渐缩小的顶端变细部(20c、25c)、及形成于所述最小通路截面积部(20b、25b)的制冷剂流下游侧且通路截面积逐渐扩大的扩开部(20d、25d),将所述通路形成部件(23、35)中的、在所述驱动装置(23a、37)使所述通路形成部件(23、35)位移时使所述最小通路截面积部(20b、25b)的通路截面积变化的部位定义为顶端部(23b、35a),并将所述通路形成部件(23、35)向使所述最小通路截面积部(20b、25b)的通路截面积增加的一侧位移时的位移量定义为增加侧位移量(δ)时,所述顶端部(23b、35a)形成为伴随着所述增加侧位移量(δ)的增加而使所述最小通路截面积部(20b、25b)的通路截面积的增加程度变大的形状。
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