[发明专利]荧光光源装置有效
| 申请号： | 201680015707.7 | 申请日： | 2016-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN107407479B | 公开（公告）日： | 2018-09-28 |
| 发明（设计）人： | 井上正树;北村政治 | 申请（专利权）人： | 优志旺电机株式会社 |
| 主分类号： | F21V29/502 | 分类号： | F21V29/502;F21S2/00;F21V7/22;F21V9/00;G02B5/08;F21Y115/30 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 白丽 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的是提供不会产生反射层从荧光板剥离这样的不良情况下可长时间防止反射率的下降而得到高的发光效率的荧光光源装置。本发明的荧光光源装置的特征在于，其具备：由通过激发光发出荧光的荧光体和金属氧化物形成且表面被制成激发光入射面的荧光板；配置在该荧光板的背面侧的反射层；和放热基板，其中，将上述反射层的背面以及覆盖周侧面的密封层介由粘接层与上述荧光板的背面的周缘密合地设置。 | ||
| 搜索关键词： | 荧光 光源 装置 | ||
【主权项】：
1.一种荧光光源装置，其特征在于，其具备：由通过激发光发出荧光的荧光体和金属氧化物形成且表面被制成激发光入射面的荧光板；配置在该荧光板的背面侧的具有反射层的反射层叠体；和放热基板，其中，通过所述荧光板、密封层和粘接层形成了所述反射层叠体的密封结构，所述密封层将所述反射层的背面以及周侧面覆盖，所述粘接层将所述密封层粘接在所述反射层叠体以及所述荧光板上。
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