[发明专利]二氧化硅膜及分离膜过滤器有效

专利信息
申请号: 201680015708.1 申请日: 2016-03-15
公开(公告)号: CN107427784B 公开(公告)日: 2020-12-15
发明(设计)人: 三浦绫;古川昌宏 申请(专利权)人: 日本碍子株式会社
主分类号: B01D71/02 分类号: B01D71/02;B01D69/00;B01D69/02;B01D69/10;B01D69/12;C01B33/12
代理公司: 北京旭知行专利代理事务所(普通合伙) 11432 代理人: 王轶;郑雪娜
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 二氧化硅膜过滤器10包括:多孔质基材13、和被形成在多孔质基材13上且具有芳基的二氧化硅膜18。该二氧化硅膜18的、利用能量分散型X射线分光法(EDX)进行元素分析而得到的原子数比Si/C为0.2~15的范围。另外,二氧化硅膜18的膜厚优选为30nm~300nm的范围,傅里叶变换红外吸收光谱(FT-IR)中的、Si-O-Si键的吸收强度X与基于芳基的吸收强度Y的比值X/Y优选为5.0~200的范围。
搜索关键词: 二氧化硅 分离 过滤器
【主权项】:
一种二氧化硅膜,其中,所述二氧化硅膜具有芳基,且利用能量分散型X射线分光法、亦即EDX法进行元素分析而得到的原子数比Si/C为0.2~15的范围。
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