[发明专利]用于形成N‑酰基脲涂层的溶剂型体系在审
申请号: | 201680019648.0 | 申请日: | 2016-02-01 |
公开(公告)号: | CN107428902A | 公开(公告)日: | 2017-12-01 |
发明(设计)人: | R·库马;H·S·吴;N·勒贝丁斯基;S·格蓝迪 | 申请(专利权)人: | 巴斯夫欧洲公司 |
主分类号: | C08G18/48 | 分类号: | C08G18/48;C08G18/66;C08G18/72;C08G18/75;C08G18/76;C08G18/79;C08G18/09;C08G18/16;C08G18/28;C09D175/04;C08G18/32;C08G18/34 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所11247 | 代理人: | 彭立兵,林柏楠 |
地址: | 德国路*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本公开提供用于在基底上形成n‑酰基脲涂层的溶剂型体系。在一个实施方案中,该溶剂型体系包括聚碳二亚胺‑聚氨酯杂化物。该溶剂型体系还包括酸官能聚合物和有机溶剂,并包括基于所述溶剂型体系的总重量计少于或等于10重量%的水。该溶剂型体系还包括每一百万重量份的所述溶剂型体系小于大约100重量份的甲苯二异氰酸酯。 | ||
搜索关键词: | 用于 形成 酰基脲 涂层 溶剂 体系 | ||
【主权项】:
一种用于在基底上形成n‑酰基脲涂层的溶剂型体系,所述溶剂型体系包含:A.具有下列结构的聚碳二亚胺‑聚氨酯杂化物:其中各n独立地为1至20的数;其中各Y独立地为具有(w个)氧原子的烷氧基或多烷氧基,其中各w独立地为至少1;其中各z独立地为0至(w‑1)的数值;且其中x、Y和所述CnH2n+1基团总数分别以(4至5):(0.5至1.5):(2.5至4.5)的比率存在,B.酸官能聚合物;和C.有机溶剂,其中所述溶剂型体系包含基于所述溶剂型体系的总重量计少于或等于10重量%的水,且其中所述溶剂型体系包括每一百万重量份的所述溶剂型体系小于大约100重量份的甲苯二异氰酸酯。
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