[发明专利]钽溅射靶的制造方法和由其制成的溅射靶在审

专利信息
申请号: 201680021087.8 申请日: 2016-04-01
公开(公告)号: CN107466328A 公开(公告)日: 2017-12-12
发明(设计)人: E.Y.伊万诺夫;M.费希尔;A.库恩 申请(专利权)人: 东曹SMD有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C22C27/02
代理公司: 北京市柳沈律师事务所11105 代理人: 肖靖泉
地址: 美国俄*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: Ta溅射靶的制造方法和由其制成的溅射靶。将Ta锭沿着x、y和z维度的至少两个进行压缩,且然后在这些维度的至少一个上进行横轧。然后,由经横轧的锭切割出一对靶坯。所得的靶主要具有混合的{100}和{111}织构,且具有减少的B{100}和B{111}成带系数。
搜索关键词: 溅射 制造 方法 制成
【主权项】:
BCC金属或BCC金属合金靶的制造方法,其包括如下步骤(a)提供锭,所述锭具有大体上圆柱形的外形且具有x、y和z维度方向,(b)在所述维度方向的至少两个上压缩所述锭,(c)沿着所述维度方向的至少一个横轧所述锭,(d)垂直于所述维度方向的第一个且平行于所述维度方向的第二个切割由所述步骤(c)得到的所述锭以至少形成一对靶坯,和(e)横轧所述靶坯的每一个。
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