[发明专利]高长径比的光学精加工薄金刚石基材或窗及其制造方法有效
| 申请号： | 201680022293.0 | 申请日： | 2016-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN107873063B | 公开（公告）日： | 2021-03-12 |
| 发明（设计）人： | W-Q·许;C·刘;埃尔金·E·伊斯勒;乔瓦尼·巴尔巴罗萨;查尓斯·D·坦纳;托马斯·E·安德森 | 申请（专利权）人： | II-VI有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/27 | 分类号： | C23C16/27;C23C16/01;C23C16/56;C23C16/511;C23C16/02 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 王静;丁业平 |
| 地址： | 美国宾夕*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 在金刚石膜、基材或窗的形成方法中，提供一种硅基材，并且金刚石膜、基材或窗CVD生长在硅该基材的表面。生长的金刚石膜、基材或窗具有≥100的长径比，其中所述长径比是金刚石膜、基材或窗的最大尺寸除以金刚石膜的厚度所得的比值。可任选地从金刚石膜、基材或窗上除去或分离该硅基材。 | ||
| 搜索关键词： | 长径 光学 精加工 金刚石 基材 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种金刚石膜、基材或窗，包括：至少一个光学精加工表面；并且所述金刚石膜、基材或窗的最大尺寸除以所述金刚石膜、基材或窗的厚度所得的长径比≥100。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
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