[发明专利]包含流动隔离环的处理套组

摘要

提供一种处理腔室，该处理腔室包括侧壁，具有外突出部分的基板支撑件及基板支撑件下方的气体入口。处理腔室进一步包括第一衬垫，第一衬垫绕基板支撑件的外突出部分的底表面设置。第一衬垫具有内表面，该内表面通过第一间隙而与基板支撑件的外突出部分分隔。处理腔室进一步包括流动隔离环，该流动隔离环具有内部底表面与外部底表面，该内部底表面设置于该基板支撑件的该外突出部分上，该外部底表面相对于该内部底表面向外延伸，该外部底表面覆盖在该第一间隙之上。

主权项

1.一种处理腔室，包括：侧壁；基板支撑件，所述基板支撑件具有外突出部分；气体入口，所述气体入口在所述基板支撑件的下方；第一衬垫，所述第一衬垫具有通过第一间隙而与所述基板支撑件的所述外突出部分分隔的环形内表面，所述第一衬垫进一步具有外倾斜表面；及流动隔离环，所述流动隔离环具有内部底表面与外部底表面，所述内部底表面在所述基板支撑件处于举升位置时被配置成设置于所述基板支撑件的所述外突出部分上，所述外部底表面相对于所述内部底表面向外延伸，所述外部底表面覆盖在所述第一间隙之上，其中所述流动隔离环进一步包括：顶表面，所述顶表面相对于所述外部底表面的外缘向内定位；及所述顶表面与所述外部底表面之间的外倾斜表面，所述外倾斜表面朝所述顶表面向内定向，其中当所述基板支撑件处于下降位置时，所述流动隔离环的所述外部底表面被配置成设置于所述第一衬垫上，及当所述基板支撑件处于所述下降位置时，所述流动隔离环的外倾斜表面和所述第一衬垫的外倾斜表面被配置成在同一直线上。