[发明专利]用于沉积工艺的导电掩模的接地有效
申请号: | 201680023770.5 | 申请日: | 2016-05-11 |
公开(公告)号: | CN107735510B | 公开(公告)日: | 2022-05-24 |
发明(设计)人: | 河振晚;金载仲;郑镕拘;朴春熙;崔寿永 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | C23C16/04 | 分类号: | C23C16/04;C23C16/458;H01J37/32 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;赵静 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本公开内容的实施方式包括用于使沉积腔室中使用的阴影掩模电接地的方法和设备。在一个实施方式中,提供基板支撑件,并且基板支撑件包括:基板接收表面;以及多个可压缩的接地装置,所述多个可压缩的接地装置围绕基板接收表面的周边设置。多个接地装置中的每个包括:基部构件,所述基部构件被固定到基板支撑件;以及偏压组件,所述偏压组件能移动地设置在基部构件中。 | ||
搜索关键词: | 用于 沉积 工艺 导电 接地 | ||
【主权项】:
一种基板支撑件,所述基板支撑件包括:基板接收表面;以及多个可压缩的接地装置,所述多个可压缩的接地装置设置在形成于所述基板支撑件中的相应开口内,所述开口围绕所述基板接收表面的周边定位,其中所述多个接地装置中的每个包括:基部构件,所述基部构件被固定到所述基板支撑件,以及偏压组件,所述偏压组件能移动地设置在所述基部构件中。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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