[发明专利]用于射频皮肤处理的装置有效
| 申请号： | 201680024646.0 | 申请日： | 2016-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN107530127B | 公开（公告）日： | 2021-07-27 |
| 发明（设计）人： | J·A·帕勒洛;M·巴拉格纳;M·朱纳;B·瓦尔格斯;H·H·范阿麦龙根 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | A61B18/14 | 分类号： | A61B18/14;A61N1/32 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 郑立柱;李春辉 |
| 地址： | 荷兰艾恩*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于RF皮肤处理的装置(100)，其包括有源电极(1)，该有源电极(1)布置在该装置的操作侧面(15)上，并且具有用于与用户皮肤接触的第一皮肤接触面，该第一皮肤接触面具有小于或等于2mm的最大横截面尺寸。该装置包括回流电极(2)，该回流电极(2)布置在该装置的操作侧面(15)上，并且具有用于与用户皮肤接触的第二皮肤接触面，其中第二皮肤接触面的面积是第一皮肤接触面的面积的至少五倍大。RF发生器(21)布置成在有源电极(1)和回流电极(2)之间供应RF处理电压，以便加热有源电极下方的皮肤区域，其中RF处理电压具有在100MHz–3GHz范围内的频率。与使用可比RF处理电压、但是频率低得多的RF皮肤处理装置相比，通过使用所述范围内的RF处理电压频率，作为施加该RF处理电压的结果，在有源电极下方形成的热损伤深度显著增加。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 射频 皮肤 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种用于RF皮肤处理的装置(100)，包括：有源电极(1)，被布置在所述装置的操作侧面(15)上，并且具有用于与用户的皮肤接触的第一皮肤接触面，所述第一皮肤接触面具有小于或等于2mm的最大横截面尺寸；回流电极(2)，被布置在所述装置的所述操作侧面(15)上，并且具有用于与所述用户的所述皮肤接触的第二皮肤接触面，所述第二皮肤接触面的面积是所述第一皮肤接触面的面积的至少五倍大；RF发生器(21)，被布置成在所述有源电极(1)与所述回流电极(2)之间供应RF处理电压，以便加热所述有源电极下方的皮肤区域，其特征在于，所述RF处理电压具有在100MHz–3GHz的范围内的频率。
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