[发明专利]由硅材料构成的光学器件以及具有该光学器件的光学机器有效
申请号: | 201680024770.7 | 申请日: | 2016-03-15 |
公开(公告)号: | CN107533152B | 公开(公告)日: | 2019-11-05 |
发明(设计)人: | 天间知久;千叶一美;池田匠 | 申请(专利权)人: | 佳里多控股公司 |
主分类号: | G02B1/02 | 分类号: | G02B1/02;C01B33/02 |
代理公司: | 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 | 代理人: | 翟羽 |
地址: | 日本东京都中*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及一种由硅材料构成的光学器件以及具有该光学器件的光学机器,本发明欲解决的课题是提供具有高红外线透过率且具有高硬度、由硅材料构成的光学器件以及具有所述光学器件的光学机器。本发明提供一种用于使红外线可透过的光学器件以及光学机器,其中,所述光学器件由氧浓度是1.0×1017atom/cm3以下、含碳浓度为1.0×1016~8.0×1018atom/cm3的硅材料构成,而所述光学机器具有所述光学器件,所述光学器件安装在红外线光路上。 | ||
搜索关键词: | 材料 构成 光学 器件 以及 具有 机器 | ||
【主权项】:
1.一种用于使红外线可透过的光学器件,其特征在于,包括由氧浓度在1.0×1017atom/cm3以下、含碳浓度为1.0×1016~8.0×1018atom/cm3的硅材料构成,所述硅材料的9μm波长红外线的透过率在44%以上,奴普硬度在1190kg/mm2以上。
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