[发明专利]用于检查及量测的方法和设备有效
| 申请号： | 201680026036.4 | 申请日： | 2016-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN107567584B | 公开（公告）日： | 2020-07-17 |
| 发明（设计）人： | F·泽普;D·阿克布卢特;P·D·范福尔斯特;J·J·M·范德维基德翁;K·范贝尔克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/956 | 分类号： | G01N21/956;G02B21/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王静 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种方法，所述方法涉及：通过光学部件将第一偏振状态的入射辐射提供至物体与外部环境界面中，其中一个表面被设置成邻近于所述界面且与所述界面分离开一段间隙；由从所述界面和从所述表面反射的入射辐射来检测由所述界面处的所述第一偏振状态的入射辐射的所述反射引起的、与经反射的辐射中的所述第一偏振状态的所述辐射不同的具有不同的第二偏转状态的辐射；和产生表示所述光学部件的焦点与所述物体之间的相对位置的位置信号。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 检查 方法 设备 | ||
【主权项】：
一种方法，包括：通过光学部件将第一偏振状态的入射辐射提供至物体与外部环境界面，其中被设置成邻近于所述界面的表面由间隙与所述界面分离开；由从所述界面和从所述表面反射的入射辐射检测由所述界面处的所述第一偏振状态的入射辐射的反射引起的且区别于经反射的辐射中的所述第一偏振状态的辐射的具有不同的第二偏转状态的辐射；和产生表示所述光学部件的焦点与所述物体之间的相对位置的位置信号。
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