[发明专利]由有机铂化合物构成的化学蒸镀用原料及使用了该化学蒸镀用原料的化学蒸镀法有效
申请号: | 201680026945.8 | 申请日: | 2016-05-09 |
公开(公告)号: | CN107532294B | 公开(公告)日: | 2019-09-13 |
发明(设计)人: | 原田了辅;重富利幸;铃木和治;锅谷俊一;熊仓亚希子;小林琉美;曾根孝之 | 申请(专利权)人: | 田中贵金属工业株式会社 |
主分类号: | C23C16/18 | 分类号: | C23C16/18;C07C211/21;C07F15/00;H01L21/285 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 张苏娜;常海涛 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: |
本发明涉及下述所示的由在2价铂上配位有烯基胺及烷基阴离子的有机铂化合物构成的化学蒸镀用原料。在下述中,n为1以上5以下。烯基胺的取代基R1至R5分别为氢原子、烷基等,并且它们的碳原子数均为4以下。烷基阴离子R6及R7分别为碳原子数为1以上3以下的烷基。本发明的原料的蒸气压较高,可在低温下制造铂薄膜,同时也兼具适度的热稳定性。 |
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搜索关键词: | 化学蒸镀 有机铂化合物 烷基 烷基阴离子 碳原子数 烯基胺 热稳定性 铂薄膜 氢原子 蒸气压 配位 制造 | ||
【主权项】:
1.一种化学蒸镀用原料,其用于通过化学蒸镀法来制造铂薄膜或铂化合物薄膜,所述化学蒸镀用原料由下式所示的在2价铂上配位有烯基胺及烷基阴离子的有机铂化合物构成,[化1]
式中,n为1以上5以下;R1至R5分别为氢原子、烷基、烯基、炔基、氨基、亚氨基、氰基、异氰基中的任一种,并且它们的碳原子数均为4以下;R6及R7分别为碳原子数为1以上3以下的烷基。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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