[发明专利]研磨垫及研磨垫的制造方法有效
| 申请号： | 201680027452.6 | 申请日： | 2016-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN107614202B | 公开（公告）日： | 2019-12-03 |
| 发明（设计）人： | 高木大辅;西藤和夫;田浦歳和 | 申请（专利权）人： | 阪东化学株式会社 |
| 主分类号： | B24D11/00 | 分类号： | B24D11/00;B24B7/24;B24B29/00;B24D3/00;B24D7/08;B24D9/08;C03C19/00;G11B5/84 |
| 代理公司： | 11205 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人： | 马爽;臧建明<国际申请>=PCT/JP2 |
| 地址： | 日本兵库县神户市*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种具有高的平坦化精度，且在比较长的期间内研磨速率不易降低的研磨垫及研磨垫的制造方法。本发明的研磨垫包括基材膜；以及研磨层，层叠于基材膜的表面侧且含有研磨粒及其粘合剂，研磨层具有沿着其研磨方向被划分而成的平均高度不同的多种区域，当将与每个区域的自研磨层整体的重心的距离对应的多个分割部分中的研磨层的最大高度的平均值设为区域的基准高度时，邻接的一对区域的基准高度的差为5μm以上且小于100μm。多种区域包含基准区域、与研磨层的平均高度小于基准区域的低高度区域，且可沿着研磨方向交替地配设。研磨层可具有以相等的密度配设的在俯视下呈一定形状的多个研磨部。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种研磨垫，其包括基材膜；以及研磨层，层叠于所述基材膜的表面侧且含有研磨粒及其粘合剂，其特征在于：/n所述研磨层具有沿着其研磨方向被划分而成的平均高度不同的多种区域，/n当将与每个所述区域的自研磨层整体的重心的距离对应的多个分割部分中的研磨层的最大高度的平均值设为所述区域的基准高度时，邻接的一对所述区域的基准高度的差为5μm以上且小于100μm，/n所述研磨层的表面经槽划分，/n所述槽的其中一个以与分割区域的边界一致的方式配设。/n
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