[发明专利]释放处理装置以及释放处理方法有效
| 申请号： | 201680029834.2 | 申请日： | 2016-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN107614088B | 公开（公告）日： | 2020-10-27 |
| 发明（设计）人： | 藤泽彰利;半谷广央;松冈亮;野一色公二 | 申请（专利权）人： | 株式会社神户制钢所 |
| 主分类号： | B01D53/14 | 分类号： | B01D53/14;B01D19/00;B01J19/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张玉玲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种释放处理装置，用于从作为吸收了特定气体成分的富吸收液释放所述特定气体成分，其包括在内部具有释放流路的流路结构体，所述释放流路以从供给所述富吸收液的富吸收液供给部接收所述富吸收液的方式连接于所述富吸收液供给部，并且，所述释放流路以从供给沸点低于所述富吸收液且相对于所述富吸收液为非相溶性的释放剂的释放剂供给部接收所述释放剂的方式连接于所述释放剂供给部，所述释放流路是以使接收的所述富吸收液一边流动一边释放所述特定气体成分的方式引导该富吸收液的微通道，所述释放流路具有处理流路部，该处理流路部以使所述特定气体成分从所述富吸收液释放并向所述释放剂的蒸气移动的方式，将所述富吸收液和所述释放剂的蒸气以互相接触的状态引导。 | ||
| 搜索关键词： | 释放 处理 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种释放处理装置，其特征在于，用于从作为吸收了特定气体成分的吸收液的富吸收液释放出所述特定气体成分，所述释放处理装置包括：在内部具有释放流路的流路结构体，其中，所述释放流路以从供给所述富吸收液的富吸收液供给部接收所述富吸收液的方式连接于所述富吸收液供给部，并且，以从供给沸点低于所述富吸收液且相对于所述富吸收液为非相溶性的释放剂的释放剂供给部接收所述释放剂的方式连接于所述释放剂供给部，所述释放流路是以使接收的所述富吸收液一边流动一边释放所述特定气体成分的方式引导该富吸收液的微通道，所述释放流路具有处理流路部，该处理流路部以使所述特定气体成分从所述富吸收液释放并向所述释放剂的蒸气移动的方式，将所述富吸收液和所述释放剂的蒸气以互相接触的状态引导。
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