[发明专利]原子层生长装置有效

专利信息
申请号: 201680030039.5 申请日: 2016-04-19
公开(公告)号: CN107614751B 公开(公告)日: 2019-11-05
发明(设计)人: 松本龙弥;鹫尾圭亮 申请(专利权)人: 株式会社日本制钢所
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44;C23C16/455;H01L21/31
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 殷明;俞丹
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的原子层生长装置具备安装到成膜容器开口部的喷射器和插入安装到开口部的喷射器防粘构件,在喷射器分隔设有喷射器原料气体供给路径、喷射器原料气体供给口、喷射器反应气体供给路径、喷射器反应气体供给口、喷射器惰性气体供给路径、喷射器惰性气体供给口,在喷射器防粘构件分隔设有防粘构件原料气体供给路径、防粘构件原料气体供给口、防粘构件反应气体供给路径、防粘构件反应气体供给口、防粘构件惰性气体供给路径、防粘构件惰性气体供给口,在喷射器防粘构件的外周侧和开口部的内周侧的间隙,设有防粘构件惰性气体供给路径,以使惰性气体流过。
搜索关键词: 原子 生长 装置
【主权项】:
1.一种原子层生长装置,其特征在于,具备:成膜容器;能够安装到所述成膜容器的开口部的喷射器;以及喷射器防粘构件,其能够以位于所述喷射器的靠所述成膜容器内侧的方式插入安装到所述开口部,在所述喷射器分隔开地设有:供给薄膜的原料即原料气体的喷射器原料气体供给路径;设于所述喷射器原料气体供给路径并流出所述原料气体的喷射器原料气体供给口;供给与所述原料气体反应而形成所述薄膜的反应气体的喷射器反应气体供给路径;设于所述喷射器反应气体供给路径并流出所述反应气体的喷射器反应气体供给口;用于惰性气体流过的喷射器惰性气体供给路径;设于所述喷射器惰性气体供给路径并流出所述惰性气体的喷射器惰性气体供给口,在所述喷射器防粘构件分隔开地设有:与所述喷射器原料气体供给口连接并供给所述原料气体的防粘构件原料气体供给路径;设于防粘构件原料气体供给路径并向所述成膜容器内流出所述原料气体的防粘构件原料气体供给口;与所述喷射器反应气体供给口连接并供给所述反应气体的防粘构件反应气体供给路径;设于所述防粘构件反应气体供给路径并向所述成膜容器内流出所述反应气体的防粘构件反应气体供给口;与所述喷射器惰性气体供给口连接并供给所述惰性气体的防粘构件惰性气体供给路径;设于所述防粘构件惰性气体供给路径并向所述成膜容器内流出所述惰性气体的防粘构件惰性气体供给口,在所述喷射器防粘构件的外周侧和所述开口部的内周侧之间的间隙设有所述防粘构件惰性气体供给路径,以使所述惰性气体流过。
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