[发明专利]用于先进图案化的线边缘粗糙度降低的保形可剥离碳膜

摘要

本公开的实施例涉及在形成于光刻胶或硬掩模中的特征上方沉积保形有机材料，以减少临界尺寸及线边缘粗糙度。在各种实施例中，超保形碳基材料沉积在形成于高分辨率光刻胶中的特征上方。形成于光刻胶上方的保形有机层由此缩减特征的临界尺寸及线边缘粗糙度。

主权项

一种处理基板的方法，所述方法包括以下步骤：在硬掩模层上的光刻胶层中形成图案，所述图案形成暴露所述硬掩模层的一暴露部分的一个或更多个特征；在所述光刻胶层上直接沉积保形有机层，所述保形有机层的所述沉积包括：将烃源、等离子体引燃气体及稀释气体引入至所述处理腔室；在所述处理腔室中产生等离子体以在图案化的特征及所述暴露部分上沉积保形有机层；通过蚀刻工艺自所述底部部分移除所述保形有机层以暴露所述硬掩模层的所述暴露部分；蚀刻所述硬掩模层的所述暴露部分以在所述硬掩模层中形成凹槽；以及通过等离子体灰化方法同时移除所述保形有机层及图案化的光刻胶层的剩余部分。