[发明专利]光源装置、曝光装置以及光源控制方法有效
申请号: | 201680030951.0 | 申请日: | 2016-06-02 |
公开(公告)号: | CN107850850B | 公开(公告)日: | 2021-06-08 |
发明(设计)人: | 比企达也;木村文男 | 申请(专利权)人: | 株式会社阿迪泰克工程 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 任玉敏 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 公开一种能够使不同的多个波长的光以希望的光量比例出射的光源装置、具备该光源装置的曝光装置以及光源控制方法。光源装置(19)具备控制部(10),其基于第1波长特性的光与第2波长特性的光的规定的光量比例、以及从分别对利用光集聚部集聚的出射光所含的第1波长特性的光的光量与第2波长特性的光的光量进行测定的传感器输出的光量测定值,生成分别控制第1发光元件以及第2发光元件的输出的输出控制信号,并将生成的输出控制信号分别输出到第1发光元件以及第2发光元件。 | ||
搜索关键词: | 光源 装置 曝光 以及 控制 方法 | ||
【主权项】:
一种光源装置,其特征在于,具备:第1发光元件,出射第1波长特性的光;第2发光元件,出射与上述第1波长特性不同的第2波长特性的光;光集聚部,对来自上述第1发光元件的出射光与来自上述第2发光元件的出射光进行集聚;以及控制部,基于上述第1波长特性的光与上述第2波长特性的光的规定的光量比例、以及从分别对利用上述光集聚部集聚的上述出射光所含的上述第1波长特性的光的光量与上述第2波长特性的光的光量进行测定的传感器输出的光量测定值,生成分别控制上述第1发光元件以及上述第2发光元件的输出的输出控制信号,并将生成的上述输出控制信号分别输出到上述第1发光元件以及上述第2发光元件。
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