[发明专利]发光装置及其制造方法在审
申请号: | 201680031129.6 | 申请日: | 2016-05-30 |
公开(公告)号: | CN107615496A | 公开(公告)日: | 2018-01-19 |
发明(设计)人: | 今井贞人;渡边将英;石井广彦;平泽宏希 | 申请(专利权)人: | 西铁城电子株式会社;西铁城时计株式会社 |
主分类号: | H01L33/48 | 分类号: | H01L33/48;H01L33/50 |
代理公司: | 上海华诚知识产权代理有限公司31300 | 代理人: | 刘煜 |
地址: | 日本国山梨县富*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供一种发光装置及其制造方法,其尽量抑制使来自高密度地安装的多个发光元件的出射光与由密封发光元件的树脂中包括的荧光体产生的激发光混合而得到的实际的光的色感与设计值的偏差。发光装置具有基板;多个发光元件,其使发光面朝向与所述基板相反的一侧地密集安装于基板上;以及密封树脂,其以堆积于多个发光元件的上表面的状态含有由来自多个发光元件的光激发的多种荧光体,密封多个发光元件的整体。相邻的发光元件彼此的间隔是5μm以上且多种荧光体中的平均粒径最大的荧光体的中位径D50的120%以下的长度。 | ||
搜索关键词: | 发光 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种发光装置,其特征在于,具有:基板;多个发光元件,其使发光面朝向与所述基板相反的一侧地密集安装于所述基板上;以及密封树脂,其以堆积于所述多个发光元件的上表面的状态含有由来自所述多个发光元件的光激发的多种荧光体,密封所述多个发光元件的整体,相邻的所述发光元件彼此的间隔是5μm以上且所述多种荧光体中的平均粒径最大的荧光体的中位径D50的120%以下的长度。
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