[发明专利]检测方法和检测装置在审
| 申请号： | 201680031171.8 | 申请日： | 2016-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN107615070A | 公开（公告）日： | 2018-01-19 |
| 发明（设计）人： | 田中浩康;胜田宏 | 申请（专利权）人： | 京瓷株式会社 |
| 主分类号： | G01N33/543 | 分类号： | G01N33/543;G01N5/02;G01N35/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人： | 蒋亭 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供试样中包含的检测对象物的检测方法。另外，提供用于检测试样中包含的检测对象物的检测装置。一种检测方法，其具备从第1测定工序中测定的第1信号值和第2测定工序中测定的第2信号值得到检测值的第1检测工序。另外，一种检测装置，其具备从第1测定部中测定的第1信号值和第2测定部中测定的第2信号值得到检测值的第1检测部。 | ||
| 搜索关键词： | 检测 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种检测方法，其为试样中包含的检测对象物的检测方法，所述检测方法具备：准备工序，准备一次物质，所述一次物质预先与检测体的表面结合，且用于与所述检测对象物反应，第1反应工序，将试样向所述检测体的表面供给，通过所述检测对象物与所述一次物质的反应使一次反应物在所述检测体的表面上形成，第1供给工序，在所述第1反应工序之后，将第1液体向所述检测体的表面供给，第1测定工序，在所述第1供给工序之后，基于所述检测体的表面状态测定第1信号值，信号扩大工序，在所述第1测定工序之后，将信号扩大用物质向所述检测体的表面供给，通过所述第1反应工序中形成的所述一次反应物所参与的反应使所述检测体的表面状态发生变化，第2测定工序，在所述信号扩大工序之后，基于所述检测体的表面状态测定第2信号值，和第1检测工序，从所述第1信号值和所述第2信号值得到检测值。
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