[发明专利]用于沉积含硼膜的含硼化合物、组合物和方法在审
| 申请号： | 201680031192.X | 申请日： | 2016-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN107660209A | 公开（公告）日： | 2018-02-02 |
| 发明（设计）人： | 雷新建;金武性 | 申请（专利权）人： | 弗萨姆材料美国有限责任公司 |
| 主分类号： | C07F5/02 | 分类号： | C07F5/02;C07F5/05;C23C16/34;C23C16/455;H01L21/02;H01L29/16 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所11256 | 代理人： | 吴亦华,吕小羽 |
| 地址： | 美国亚*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本文描述了用于形成含硼膜的含硼前体化合物，以及包含所述含硼前体化合物的组合物和方法。在一个方面，所述膜从具有本文所述的下式I或II的至少一种前体沉积。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 沉积 含硼膜 化合物 组合 方法 | ||
【主权项】：
一种用于气相沉积的含硼前体，其包含：选自具有式I的化合物和具有式II的化合物的至少一种化合物：其中R1选自直链C1至C10烷基，支链C3至C10烷基，直链或支链C3至C10烯基，直链或支链C3至C10炔基，C1至C6二烷基氨基，吸电子基团和C4至C10芳基；R2选自氢，直链C1至C10烷基，支链C3至C10烷基，直链或支链C3至C6烯基，直链或支链C3至C6炔基，C1至C6二烷基氨基，C6至C10芳基，直链或支链C1至C6氟化烷基，吸电子基团和C4至C10芳基；并且任选地其中R1和R2连接在一起以形成选自取代或未取代的芳族环或者取代或未取代的脂族环的环。
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