[发明专利]用于光子器件的垂直输出耦合器有效
申请号: | 201680031753.6 | 申请日: | 2016-04-20 |
公开(公告)号: | CN107667306B | 公开(公告)日: | 2021-12-21 |
发明(设计)人: | 达米安·兰贝特 | 申请(专利权)人: | 斯考皮欧技术有限公司 |
主分类号: | G02B6/136 | 分类号: | G02B6/136;G02B6/132;G02B6/125 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 何冲;黄隶凡 |
地址: | 美国新*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种方法形成用于波导的垂直输出耦合器,所述波导通过覆于埋氧层上的波导材料沿水平传播方向传播光。该方法包括蚀刻波导以去除波导的一部分。蚀刻形成至少第一平面,所述至少第一平面在波导的边缘处、与波导的去除部分相邻,并且以相对于传播方向20度至70度之间的垂直角度倾斜。该方法还包括用反射性金属涂覆第一倾斜平面以形成镜,使得镜将光反射成具有垂直分量的方向。 | ||
搜索关键词: | 用于 光子 器件 垂直 输出 耦合器 | ||
【主权项】:
一种形成用于波导的垂直输出耦合器的方法,所述波导通过覆于埋氧层上的波导材料沿水平传播方向传播光,所述方法包括:蚀刻所述波导材料以形成所述波导;蚀刻所述波导材料以去除所述波导的至少第一部分,其中所述蚀刻形成:在所述波导材料中的至少第一倾斜平面,以及在所述波导的未蚀刻部分与所述第一倾斜平面之间的空间;用反射性金属涂覆所述第一倾斜平面以形成倾斜的镜;以及将折射率匹配材料沉积到所述波导的所述未蚀刻部分与所述倾斜的镜之间的所述空间中,使得通过所述波导传播到所述空间中的光继续通过所述折射率匹配材料到达所述倾斜的镜,而所述倾斜的镜将所述光向上反射。
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