[发明专利]离子植入系统以及原位等离子清洗方法

摘要

本文提供离子植入系统以及原位等离子清洗方法。在一个方法中，所述构件可包含具有一或多个传导性射束光学器件的射束线构件。系统更包含电力供应器，其用于在处理模式期间将第一电压和第一电流供应到构件且在清洗模式期间将第二电压和第二电流供应到构件。第二电压和电流可并联地施加到构件的传导性射束光学器件以选择性地(例如，个别地)在一或多个传导性射束光学器件中的一或多者周围产生等离子。系统可更包含用于调整供应到构件的蚀刻剂气体的注入速率的流量控制器，和用于调整构件的环境的压力的真空泵。

主权项

一种离子植入系统，包括：在所述离子植入系统的腔室内的构件；与所述构件连通的电力供应器，所述电力供应器经配置以在清洗模式期间将电压和电流供应到所述构件，其中所述电压和所述电流经施加到所述构件的传导性射束光学器件以在所述传导性射束光学器件周围产生等离子；以及蚀刻剂气体，其经供应到所述构件以实现所述传导性射束光学器件的蚀刻。