[发明专利]将物场成像至像场中的成像光学单元,以及包括这种成像光学单元的投射曝光设备有效
申请号: | 201680033406.7 | 申请日: | 2016-04-12 |
公开(公告)号: | CN107810446B | 公开(公告)日: | 2021-07-06 |
发明(设计)人: | M.施瓦布 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G02B17/06 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 王蕊瑞 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
本发明涉及投射光刻的成像光学单元(7),其具有多个反射镜(M1至M8),用于将成像光(3)从物场(4)引导到像场(8)中。物场(4)跨越于两个物场坐标(x,y),法线坐标(z)垂直于这两个物场坐标。成像光(3)在第一成像光平面(xz |
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搜索关键词: | 将物场 成像 至像场 中的 光学 单元 以及 包括 这种 投射 曝光 设备 | ||
【主权项】:
投射光刻的成像光学单元(7;21;22;23;26;27;29)‑包括多个反射镜(M1至M8;M1至M6;M1至M7;M1至M9;M1至M10),所述多个反射镜沿着成像光束路径将成像光(3)从物平面(5)中的物场(4)引导到像平面(9)中的像场(8)中;‑其中所述物场(4)由以下跨越‑‑第一笛卡尔物场坐标(x),和‑‑第二笛卡尔物场坐标(y),以及‑其中第三笛卡尔法线坐标(z)垂直于这两个物场坐标(x,y);‑其中所述成像光学单元(7;21;22;23;26;27;29)实施为使得:‑‑所述成像光(3)在第一成像光平面(xzHR)中传播,成像光主要传播方向(zHR)位于所述第一成像光平面中,以及‑‑所述成像光(3)在所述第二成像光平面(yz)中传播,所述成像光主要传播方向(zHR)位于所述第二成像光平面中,并且所述第二成像光平面垂直于所述第一成像光平面(xzHR);‑其中在所述第一成像光平面(xzHR)中传播的所述成像光(3)的第一平面中间像(18)的数量和在所述第二成像光平面(yz)中传播的成像光(3)的第二平面中间像(19,20;24,19,25)的数量彼此不同。
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