[发明专利]将物场成像至像场中的成像光学单元,以及包括这种成像光学单元的投射曝光设备有效

专利信息
申请号: 201680033406.7 申请日: 2016-04-12
公开(公告)号: CN107810446B 公开(公告)日: 2021-07-06
发明(设计)人: M.施瓦布 申请(专利权)人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B17/06
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 王蕊瑞
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及投射光刻的成像光学单元(7),其具有多个反射镜(M1至M8),用于将成像光(3)从物场(4)引导到像场(8)中。物场(4)跨越于两个物场坐标(x,y),法线坐标(z)垂直于这两个物场坐标。成像光(3)在第一成像光平面(xzHR)中传播穿过成像光学单元(7)的至少一个第一平面中间像(18)。在第二成像光平面(yz)中,成像光传播穿过成像光学单元(7)的至少一个第二平面中间像(19,20)。第一平面中间像(18)的数量和第二平面中间像(19,20)的数量彼此不同。结果是制造成本减少的成像光学单元。
搜索关键词: 将物场 成像 至像场 中的 光学 单元 以及 包括 这种 投射 曝光 设备
【主权项】:
投射光刻的成像光学单元(7;21;22;23;26;27;29)‑包括多个反射镜(M1至M8;M1至M6;M1至M7;M1至M9;M1至M10),所述多个反射镜沿着成像光束路径将成像光(3)从物平面(5)中的物场(4)引导到像平面(9)中的像场(8)中;‑其中所述物场(4)由以下跨越‑‑第一笛卡尔物场坐标(x),和‑‑第二笛卡尔物场坐标(y),以及‑其中第三笛卡尔法线坐标(z)垂直于这两个物场坐标(x,y);‑其中所述成像光学单元(7;21;22;23;26;27;29)实施为使得:‑‑所述成像光(3)在第一成像光平面(xzHR)中传播,成像光主要传播方向(zHR)位于所述第一成像光平面中,以及‑‑所述成像光(3)在所述第二成像光平面(yz)中传播,所述成像光主要传播方向(zHR)位于所述第二成像光平面中,并且所述第二成像光平面垂直于所述第一成像光平面(xzHR);‑其中在所述第一成像光平面(xzHR)中传播的所述成像光(3)的第一平面中间像(18)的数量和在所述第二成像光平面(yz)中传播的成像光(3)的第二平面中间像(19,20;24,19,25)的数量彼此不同。
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