[发明专利]表面处理剂有效
申请号: | 201680033924.9 | 申请日: | 2016-06-10 |
公开(公告)号: | CN107636001B | 公开(公告)日: | 2020-11-03 |
发明(设计)人: | 本多义昭;胜间希望;森安礼奈 | 申请(专利权)人: | 大金工业株式会社 |
主分类号: | C07F7/21 | 分类号: | C07F7/21;C07F7/18;C08G65/336;C09K3/18 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
本发明提供下述通式(A1)或(A2)所示的化合物:R |
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搜索关键词: | 表面 处理 | ||
【主权项】:
一种下述通式(A1)或(A2)所示的化合物,R1‑(PE1‑Y)n‑PE2‑X‑(SiRakRblRcm)α ...(A1)(RcmRblRakSi)α‑X‑(PE1‑Y)n‑PE2‑X‑(SiRakRblRcm)α ...(A2)式中,R1表示OR4;R4表示氢原子或碳原子数1~20的烷基;PE1在每次出现时分别独立地表示式‑(CaH2aO)b‑所示的基团,式‑(CaH2aO)b‑中,a在每个标注b且用括号括起来的单元中分别独立地为1~6的整数;b在每次出现时分别独立地为1~200的整数;Y在每次出现时分别独立地表示单键或‑CONH‑R5‑NHCOO‑;R5在每次出现时分别独立地表示二价的有机基团;n为1~50的整数;PE2表示单键或所述‑(CaH2aO)b‑基;X分别独立地表示单键或2~10价的有机基团;Ra在每次出现时分别独立地表示‑Z‑SiR71pR72qR73r;Z在每次出现时分别独立地表示氧原子或2价的有机基团;R71在每次出现时分别独立地表示Ra′;Ra′的含义与Ra相同;Ra中,经由Z基连结成直链状的Si最多为5个;R72在每次出现时分别独立地表示羟基或能够水解的基团;R73在每次出现时分别独立地表示氢原子或低级烷基;p在每次出现时分别独立地为0~3的整数;q在每次出现时分别独立地为0~3的整数;r在每次出现时分别独立地为0~3的整数;在1个Ra中,p、q和r之和为3;Rb在每次出现时分别独立地表示羟基或能够水解的基团;Rc在每次出现时分别独立地表示氢原子或低级烷基;k在每次出现时分别独立地为0~3的整数;l在每次出现时分别独立地为0~3的整数;m在每次出现时分别独立地为0~3的整数;在标注α且用括号括起来的单元中,k、l和m之和为3;α分别独立地为1~9的整数;其中,在与1个X结合的(SiRakRblRcm)α中,具有Rb或R72的Si原子合计存在2个以上。
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