[发明专利]检查设备、检查方法、光刻设备、图案化装置及制造方法

摘要

公开了一种在光刻工艺期间监测焦距参数的方法。该方法包括分别获取第一目标和第二目标的第一测量值和第二测量值，其中第一目标和第二目标已经以相对最佳焦距偏移被曝光。该方法然后包括根据第一测量值和第二测量值确定焦距参数。还公开了相应的测量和光刻设备、计算机程序和制造器件的方法。

主权项

一种在光刻工艺期间监测焦距参数的方法，所述方法包括：获取第一测量值，所述第一测量值已从第一目标的检查获得；获取第二测量值，所述第二测量值已从第二目标的检查获得，其中所述第一目标和所述第二目标以相对最佳焦距偏移被曝光；根据所述第一测量值和所述第二测量值确定所述焦距参数。