[发明专利]光学特性测量装置以及光学特性测量装置的设定方法有效

专利信息
申请号: 201680034686.3 申请日: 2016-05-23
公开(公告)号: CN107709941B 公开(公告)日: 2020-04-14
发明(设计)人: 前田穣 申请(专利权)人: 柯尼卡美能达株式会社
主分类号: G01J1/44 分类号: G01J1/44;G01J1/38;G01J3/51;G01M11/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 张丽
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 光学特性测量装置具备:输入部,关于使用分光传感器的测量输入第1曝光时间以及第1累计次数;计算部,使用所输入的第1曝光时间和第1累计次数来计算使用分光传感器的测量的测量时间(第1测量时间);以及确定部,以减小第1测量时间与使用二维成像传感器的测量的测量时间(第2测量时间)之差或者消除差的方式确定使用二维成像传感器的测量中的第2曝光时间以及第2累计次数中的至少一方。
搜索关键词: 光学 特性 测量 装置 以及 设定 方法
【主权项】:
一种光学特性测量装置,具备:第1光学传感器,将测量对象中的二维区域作为测量范围;第2光学传感器,将包含于所述二维区域且比所述二维区域窄的点区域作为测量范围;输入部,关于使用所述第1光学传感器以及所述第2光学传感器中的一个光学传感器的测量被输入第1曝光时间以及第1累计次数;计算部,使用被输入到所述输入部的所述第1曝光时间和所述第1累计次数计算第1测量时间,该第1测量时间是使用所述一个光学传感器的测量的测量时间;以及确定部,以减小所述第1测量时间与第2测量时间之差或者消除所述差的方式确定使用所述第1光学传感器以及所述第2光学传感器中的另一个光学传感器的测量中的第2曝光时间以及第2累计次数中的至少一方,所述第2测量时间是使用所述另一个光学传感器的测量的测量时间。
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