[发明专利]分段式转印带及其制备和使用方法有效
| 申请号： | 201680035855.5 | 申请日： | 2016-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN107820461B | 公开（公告）日： | 2019-12-17 |
| 发明（设计）人： | 马丁·B·沃克;托马斯·J·梅茨勒;赛缪尔·J·卡彭特;丹尼斯·泰尔齐奇;米切尔·T·诺曼森;苏曼·K·帕特尔;米哈伊尔·L·佩库洛夫斯基;唐纳德·G·皮特森 | 申请（专利权）人： | 3M创新有限公司 |
| 主分类号： | B32B3/10 | 分类号： | B32B3/10;B32B3/30;B32B5/02;B32B7/02;B32B7/06;B32B7/12;B32B15/04;B32B15/08;B32B27/08;B32B27/10;B32B27/12;B32B27/28;B32B27/30;B |
| 代理公司： | 11112 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人： | 樊晓焕;金小芳 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本公开涉及可用于仅转印转印带的区段的一部分的分段式转印带及其制备方法。所述分段式转印带包括具有结构化表面的可移除模板层；包括回填层和粘合剂层的转印层，其中所述回填层具有结构化第一主表面；在所述转印层中形成的至少一个可转印区段；在所述转印层中形成的至少一个不可转印区段，所述至少一个不可转印区段包括粘合剂表面，其中钝化层设置于所述至少一个不可转印区段的粘合剂表面的至少一部分上；以及从所述粘合剂层的第一主表面延伸并进入所述可移除模板层的至少一部分中的至少一个截口。本公开还提供了微光学组件以及由所述分段式转印带制备微光学组件的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 段式 转印带 及其 制备 使用方法 | ||
【主权项】：
1.一种分段式转印带，包括：/n具有结构化表面和相反的第二表面的可移除模板层；/n转印层，所述转印层包括：/n回填层，所述回填层设置于所述可移除模板层的结构化表面的至少一部分上并适形于所述可移除模板层的结构化表面的至少一部分，其中所述回填层具有邻近所述可移除模板层的结构化表面的结构化第一主表面和相反的第二主表面；和/n粘合剂层，所述粘合剂层具有第一主表面和相反的第二主表面，其中所述粘合剂层的第二主表面邻近所述回填层的第二主表面或与所述回填层的第二主表面接触；/n在所述转印层中形成的至少一个可转印区段，所述至少一个可转印区段包括粘合剂表面并具有相对于所述粘合剂表面的平面的形状；/n在所述转印层中形成的至少一个不可转印区段，所述至少一个不可转印区段包括粘合剂表面，其中钝化层设置于所述至少一个不可转印区段的粘合剂表面的至少一部分上；以及/n至少一个截口，所述至少一个截口从所述粘合剂层的第一主表面延伸穿过所述转印层并进入所述可移除模板层的至少一部分中，所述截口的深度小于所述转印带的厚度，并且其中所述至少一个可转印区段的形状由所述至少一个截口限定。/n
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