[发明专利]治疗气体供应装置在审
申请号: | 201680037360.6 | 申请日: | 2016-06-16 |
公开(公告)号: | CN107810027A | 公开(公告)日: | 2018-03-16 |
发明(设计)人: | 山森伸二;高柳良大;兵后充史 | 申请(专利权)人: | 日本光电工业株式会社 |
主分类号: | A61M16/12 | 分类号: | A61M16/12;B01F3/02;B01F13/10;B01F15/04;C25B1/04;C25B9/06;G05D11/13;G05D11/16 |
代理公司: | 北京奉思知识产权代理有限公司11464 | 代理人: | 吴立,邹轶鲛 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种治疗气体供应装置(1),包括第一混合气体生成部(13),该第一混合气体生成部(13)构造为生成其中第一气体(11)和具有治疗效果的治疗气体(10)以第一比率互相混合的第一混合气体;以及第二混合气体生成部(14),该第二混合气体生成部(14)构造为生成其中第二气体(12)和治疗气体(10)以第二比率互相混合的第二混合气体,所述第二比率与所述第一比率具有恒定差值。治疗气体供应装置(1)还包括第三混合部(15),该第三混合部(15)构造为生成其中第一混合气体和第二混合气体互相混合的混合气体。 | ||
搜索关键词: | 治疗 气体 供应 装置 | ||
【主权项】:
一种治疗气体供应装置,包括:第一混合气体生成部,该第一混合气体生成部构造为生成其中第一气体与具有治疗效果的治疗气体以第一比率互相混合的第一混合气体;以及第二混合气体生成部,该第二混合气体生成部构造为生成其中第二气体与所述治疗气体以第二比率互相混合的第二混合气体,所述第二比率与所述第一比率具有恒定差值。
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