[发明专利]距离测量装置以及距离图像合成方法有效

专利信息
申请号: 201680037539.1 申请日: 2016-06-30
公开(公告)号: CN107710015B 公开(公告)日: 2021-08-24
发明(设计)人: 西川真由;森圭一 申请(专利权)人: 新唐科技日本株式会社
主分类号: G01S17/89 分类号: G01S17/89
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 朴勇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供与表面反射率无关而在距离图像的大致整体能够得到良好的距离精度的距离测量装置。距离测量装置具备:发光部(10),从光源向被摄体照射光;受光部(20),发光部(10)照射的光在被摄体反射而产生的反射光由配置为二维状的像素组接受;合成部(112),对从像素组的不同曝光期间曝光的像素中读出的多个像素信号进行合成,从而生成合成信号;以及距离运算部(114),根据照射与受光的时间差以及合成信号,计算到被摄体为止的距离值,合成部(112)在第一曝光期间曝光的像素信号比规定的饱和电平大时,通过第一合成处理生成合成信号,在第一曝光期间曝光的像素信号比饱和电平小时,通过第二合成处理生成合成信号。
搜索关键词: 距离 测量 装置 以及 图像 合成 方法
【主权项】:
一种距离测量装置,具备:发光部,从光源向被摄体照射光;受光部,通过配置为二维状的像素组接收所述发光部所照射的光在所述被摄体上反射而产生的反射光;合成部,对从所述像素组中的在不同的曝光期间曝光的像素读出的多个像素信号进行合成而生成合成信号;以及距离运算部,根据照射与受光的时间差以及所述合成信号,计算到所述被摄体的距离值,所述合成部当在第一曝光期间曝光的像素信号比规定的饱和电平大时,通过第一合成处理来生成所述合成信号,当在第一曝光期间曝光的像素信号比所述饱和电平小时,通过第二合成处理来生成所述合成信号。
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