[发明专利]有机层的高分辨率图案化方法有效
| 申请号： | 201680038320.3 | 申请日： | 2016-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN108292714B | 公开（公告）日： | 2020-04-28 |
| 发明（设计）人： | 柯统辉;P·玛丽诺斯奇;中村笃史 | 申请（专利权）人： | IMEC非营利协会;富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | H01L51/56 | 分类号： | H01L51/56;H01L51/48;H01L51/40 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 江磊;郭辉 |
| 地址： | 比利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种用于有机层(301)光刻图案化的方法，例如有机电子装置的有机半导体层光刻图案化的方法，所述方法包括：在有机层上提供水溶性屏蔽层(131)，在屏蔽层上提供光刻胶层(141)，使得所述光刻胶层光刻图案化以由此形成图案化的光刻胶层，使用图案化的光刻胶层作为掩模对屏蔽层和有机层进行蚀刻，从而由此形成图案化的屏蔽层和图案化的有机层，并且随后去除图案化的屏蔽层。所述方法的特征在于，所述方法包括在提供水溶性屏蔽层之前，在有机层上提供具有疏水性上表面的疏水性保护层(121)。 | ||
| 搜索关键词： | 有机 高分辨率 图案 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件；专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
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