[发明专利]氧化物烧结体在审
| 申请号： | 201680038373.5 | 申请日： | 2016-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN107709270A | 公开（公告）日： | 2018-02-16 |
| 发明（设计）人： | 挂野崇;角田浩二 | 申请（专利权）人： | 捷客斯金属株式会社 |
| 主分类号： | C04B35/01 | 分类号： | C04B35/01;C23C14/34;H01B1/08;H01B5/14 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司11219 | 代理人： | 胡嵩麟,王海川 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种氧化物烧结体，其为实质上包含铟、锡、镁和氧，以Sn/(In+Sn+Mg)的原子数比为5％～15％的比例含有锡，以Mg/(In+Sn+Mg)的原子数比为0.1％～2.0％的比例含有镁，剩余部分包含铟和氧的烧结体，其特征在于，所述烧结体的表面粗糙度Ra为0.3μm～0.5μm时的挠曲强度为140MPa以上。本发明的课题在于提供可以减少成膜时靶破裂、粉粒产生，并且可以形成非晶稳定性、耐久性优良的薄膜的溅射靶用氧化物烧结体。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化物 烧结 | ||
【主权项】：
一种氧化物烧结体，其为实质上包含铟、锡、镁和氧，以Sn/(In+Sn+Mg)的原子数比为5％～15％的比例含有锡，以Mg/(In+Sn+Mg)的原子数比为0.1％～2.0％的比例含有镁，剩余部分包含铟和氧的烧结体，其特征在于，所述烧结体的表面粗糙度Ra为0.3μm～0.5μm时的挠曲强度为140MPa以上。
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