[发明专利]金属掩模基材、金属掩模、以及金属掩模的制造方法在审
| 申请号： | 201680041439.6 | 申请日： | 2016-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN107849681A | 公开（公告）日： | 2018-03-27 |
| 发明（设计）人： | 藤户大生;西辻清明;西刚广 | 申请（专利权）人： | 凸版印刷株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;H01L51/50;H05B33/10 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人： | 牛玉婷 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 金属掩模基材具备以配置抗蚀剂的方式构成的金属制的表面，表面的三维表面粗糙度Sa为0.11μm以下，表面的三维表面粗糙度Sz为3.17μm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 基材 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种金属掩模基材，其中，具备以供抗蚀剂配置的方式构成的金属制的表面，上述表面的三维表面粗糙度Sa为0.11μm以下，上述表面的三维表面粗糙度Sz为3.17μm以下。
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