[发明专利]曝光数据修正装置、布线图案形成系统及布线基板的制造方法有效

专利信息
申请号: 201680042016.6 申请日: 2016-07-15
公开(公告)号: CN107850855B 公开(公告)日: 2020-05-26
发明(设计)人: 山本哲平;中山肇;荻野晴夫;矶田聪;前田晃;山田亮 申请(专利权)人: 日立化成株式会社;株式会社斯库林集团
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H05K3/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 高迪
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 在使由下底数据的手动测量带来的工作量减少的同时,抑制曝光数据修正量的误差,使电路宽度精度提高。一种曝光数据修正装置,取得基于从第1实际图案的上底得到的数据的第1上底数据,上述第1实际图案通过使用基于设计数据的曝光数据的电路加工得到;取得基于从第1实际图案的下底得到的数据的下底数据;决定第1上底数据与下底数据的相关关系;取得第2上底数据,上述第2上底数据基于从包括与第1实际图案不同的区域在内的区域中的上底得到的数据、或从与第1实际图案不同的第2实际图案的上底得到的数据;基于为了得到第2上底数据而使用的实际图案所用的设计数据、第2上底数据及相关关系,决定修正函数;将为了得到第2上底数据而使用的实际图案所用的曝光数据基于修正函数进行修正。
搜索关键词: 曝光 数据 修正 装置 布线 图案 形成 系统 制造 方法
【主权项】:
一种曝光数据修正装置,对用来制作布线图案的曝光数据进行修正,取得第1上底数据,该第1上底数据基于从具有上底及下底的凸状的第1实际图案的至少一部分的区域中的上底得到的数据,上述第1实际图案是通过使用基于作为目标的布线图案所用的设计数据的曝光数据进行电路加工而得到的;取得基于从上述第1实际图案的至少一部分的区域中的下底得到的数据的下底数据;决定上述第1上底数据与上述下底数据的相关关系;取得第2上底数据,上述第2上底数据基于从包括与上述第1实际图案的至少一部分的区域不同的区域在内的区域中的上底得到的数据、或从与上述第1实际图案不同的第2实际图案的上底得到的数据;基于为了得到上述第2上底数据而使用的实际图案所用的设计数据、上述第2上底数据及上述相关关系,决定修正函数,上述修正函数表示引起在设计数据中决定的成品值与实际图案中的成品值之间的差分的因子、与用来抑制该差分的修正量的关系;基于上述修正函数,对为了得到上述第2上底数据而使用的实际图案所用的曝光数据进行修正。
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