[发明专利]生产高纯度氮气的CLC方法和设备有效
| 申请号： | 201680043027.6 | 申请日： | 2016-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN108027138B | 公开（公告）日： | 2020-01-17 |
| 发明（设计）人： | F·格尤鲁;S·博托林;M·亚兹丹帕南 | 申请（专利权）人： | IFP新能源公司;道达尔炼油化工公司 |
| 主分类号： | F23C6/04 | 分类号： | F23C6/04;B01J8/26;B01J8/38;B01J8/00;F23C10/00;F23C10/10 |
| 代理公司： | 31100 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 江磊;郭辉 |
| 地址： | 法国里埃*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明涉及产生高纯度氮分子的CLC方法、以及用于所述方法的设施，所述方法包括：(a)通过与原料接触的氧化还原活性物质进行还原使得烃原料燃烧；(b)第一氧化步骤，使得来自步骤(a)的经还原的活性物质(25)与一部分经损耗的空气流(21b)接触，以生产高纯度氮分子流(28)和部分再氧化的活性物质流(26)；(c)第二氧化步骤，活性物质流(26)与空气(20)接触以产生经损耗的空气流、和意图在步骤(a)中使用的经再氧化的活性物质流(24)；(d)对来自步骤(c)的经损耗的空气流进行分割，以形成在步骤(b)中使用的经损耗的空气部分以及从CLC提取的剩余的经损耗的空气部分。 | ||
| 搜索关键词： | 生产 纯度 氮气 clc 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.用于通过化学回路燃烧对烃进料进行燃烧的方法，其中，颗粒形式的氧化还原活性物质在以流化床模式操作的至少一个还原区和两个氧化区之间循环，其中：/n(a)通过在至少一个还原区中与进料接触的氧化还原活性物质进行还原来实施所述烃进料的燃烧，/n(b)在第一氧化区中，对步骤(a)结束时获得的经还原的氧化还原活性物质进行氧化的第一步骤通过与氧损耗空气流的第一部分接触来进行，以产生含有100ppmv或更低量氧分子的氮分子流以及部分再氧化的氧化还原活性物质流；/n(c)在第二氧化区中，对步骤(b)结束时获得的部分再氧化的氧化还原活性物质流进行氧化的第二步骤通过与空气接触来进行，以产生氧损耗空气流和用于在步骤(a)中使用的经再氧化的氧化还原活性物质流；/n(d)对步骤(c)结束时获得的所述氧损耗空气流进行分割，以形成在步骤(b)中使用的所述氧损耗空气流的第一部分、以及从化学回路中提取的氧损耗空气流剩余的第二部分。/n
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