[发明专利]密封膜形成装置和密封膜形成方法

摘要

本发明提供密封膜形成装置和密封膜形成方法，能够稳定地形成阻隔性高的密封膜。具体而言，该密封膜形成装置具备：第一减压腔室4，其对基材W进行容纳；覆盖膜形成部2，其利用湿法工艺将覆盖膜材料供给至第一减压腔室4内所容纳的基材W而形成覆盖膜93；第二减压腔室5，其对基材W进行容纳；被减压的减压输送路6，其是基材W从第一减压腔室4到第二减压腔室5的输送路径；以及密封膜形成部3，其利用干法工艺将密封膜材料供给至形成在第二减压腔室5内所容纳的基材W上的覆盖膜93而形成密封膜90。

主权项

一种密封膜形成装置，其特征在于，该密封膜形成装置具备：第一减压腔室，其容纳基材；覆盖膜形成部，其利用湿法工艺将覆盖膜材料供给至所述第一减压腔室内所容纳的基材而形成覆盖膜；第二减压腔室，其容纳基材；被减压的减压输送路，其是基材从所述第一减压腔室到所述第二减压腔室的输送路径；和密封膜形成部，其利用干法工艺将密封膜材料供给至形成在所述第二减压腔室内所容纳的基材上的所述覆盖膜而形成密封膜。